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GX-1000大氣等離子體表面處理設(shè)備設(shè)計(jì)思路，國(guó)興技術(shù)講到實(shí)際上，低溫等離子體對(duì)物件進(jìn)行處理的過(guò)程中，等離子氣體中的各種正負(fù)離子、高能量並高速運(yùn)動(dòng)著的電子、重粒子等都會(huì)對(duì)被處理材料表面發(fā)生物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)，所以上面所提及的低溫等離子體表面處理的四種（或五種）作用通常都會(huì)同時(shí)產(chǎn)生。
根據(jù)客戶對(duì)材料表面清潔處理要求，該低溫等離子體處理方案的設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)和處理裝置設(shè)計(jì)目的主要是對(duì)材料進(jìn)行表面清潔和表面活化，增加表面清潔度和材料的親水性，這是本項(xiàng)目設(shè)計(jì)中必須考慮的前提。
裝置設(shè)計(jì)中，要考慮到可以滿足放置較多的材料同時(shí)處理，以滿足批量生產(chǎn)的效率，該處理裝置處理效果的整體均勻性也是必須重點(diǎn)考慮的充要條件。
在保證滿足以上處理效果和要求的前提下，該裝置的設(shè)計(jì)還必須考慮有良好的性能價(jià)格比和安全可靠、經(jīng)久耐用，儘量減少日常的維護(hù)成本。
本方案等離子體表面處理裝置的原理圖
GX-1000大氣等離子體表面處理設(shè)備設(shè)計(jì)的時(shí)候主要從以下幾個(gè)方面：
物體表面清潔處理方法
我們知道在真空等離子腔體內(nèi)，物體經(jīng)過(guò)射頻電源在必定的壓力情況下發(fā)生高能量的無(wú)序的等離子體，經(jīng)過(guò)等離子體清洗產(chǎn)品表面，以到達(dá)清潔目的。
物體表面活化處理方法
經(jīng)過(guò)等離子外表處理機(jī)過(guò)後的物體，增強(qiáng)了外表能，親水性，進(jìn)步粘合度，附著力。
物體表面刻蝕處理辦法
資料外表經(jīng)過(guò)反應(yīng)氣體等離子被選擇性地刻蝕，被刻蝕的資料轉(zhuǎn)化為氣相並被真空泵排出，處理後的資料微觀比外表積增加並具傑出親水性。
